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Título : Effect of the plasma composition on the structural and electronic properties of as-grown SiOx/Si heterolayers depositedby reactive sputtering
Palabras clave : SiOx
Si
Fecha de publicación : 16-ene-2013
Editorial : Institute of Physics
Descripción : CONACYT, IPN
URI : http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/10661
Otros identificadores : Semicond. Sci. Technol. 24(2009) 105028
http://hdl.handle.net/123456789/143
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