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http://repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/10945Registro completo de metadatos
| Campo DC | Valor | Lengua/Idioma |
|---|---|---|
| dc.creator | Hernandez-Rodriguez, E. | - |
| dc.creator | Zapata-Navarro, A. | - |
| dc.date | 2012-03-26T23:34:16Z | - |
| dc.date | 2012-03-26T23:34:16Z | - |
| dc.date | 2008-06 | - |
| dc.date.accessioned | 2013-01-16T11:16:41Z | - |
| dc.date.available | 2013-01-16T11:16:41Z | - |
| dc.date.issued | 2013-01-16 | - |
| dc.identifier | 978-607-414-014-9 | - |
| dc.identifier | http://hdl.handle.net/123456789/454 | - |
| dc.identifier.uri | http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/10945 | - |
| dc.description | Se prepararon películas de TiOx por la técnica de RF-sputtering reactivo a partir de un blanco de Ti en una atmósfera O2-Ar. Para obtener los subóxidos (TiOx) el contenido de oxígeno dentro de la cámara de crecimiento se controló a través de los flujos de entrada de los gases con fracciones O2/Ar de 0 a 2.5. Los espectros de DRX mostraron que las películas crecen amorfas y que después de tratamiento térmico a 700° C cristalizan, observándose la formación de subóxidos y la presencia de fases cristalinas del TiO2 como función del contenido de oxígeno. El ancho de banda de energía prohibida varía de manera no lineal con O2/Ar y tiene un valor máximo para las películas amorfas de 2.94 eV y para las películas cristalinas de 2.71 eV. Existen tres regiones de depósito. | - |
| dc.description | Articulo en extenso en memoria de simposio | - |
| dc.description | Instituto Politecnico Nacional | - |
| dc.language | es | - |
| dc.publisher | Instituto Politecnico Nacional | - |
| dc.subject | peliculas delgadas | - |
| dc.title | Dependencia de las propiedades ópticas y estructurales con la concentración de oxígeno de películas delgadas de TiOx depositadas por RF-sputtering reactivo | - |
| dc.type | Article | - |
| Aparece en las colecciones: | Doctorado | |
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| Fichero | Descripción | Tamaño | Formato | |
|---|---|---|---|---|
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