CRECIMIENTO DE PELÍCULAS DELGADAS DE TIO2 MEDIANTE DEPÓSITO POR LÁSER PULSADO: ABLACIÓN MONOPULSO VERSUS MULTIPULSO

Abstract

Mediante la técnica PLD (Pulsed Laser Deposition – Depósito por láser pulsado) se depositaron películas delgadas de TiO2 sobre sustratos de vidrio, a partir de una pastilla de TiO2 cerámico. Para el proceso de ablación se empleó un láser de Nd:YAG con emisión en 1064 nm a 10Hz de repetición, configurado para operar en los regímenes monopulso y multipulso, con el propósito de hacer una comparación en tasas de depósito y rugosidad en las películas generadas. Para llevar a cabo el depósito de utilizó la misma energía total de pulso, en ambos casos de aproximadamente 104 mJ. En el caso del régimen multipulso, se emiten tres pulsos con separación temporal de 45 μs entre ellos. Las condiciones de depósito se mantuvieron constantes en todos los casos, 2-4x10-5 Torr de presión, temperatura de sustratos de 130°C y separación blanco-sustrato de 5 cm. Las películas se caracterizaron mediante microscopía de fuerza atómica, midiéndose el espesor con el fin de determinar las tasas de depósito, y la rugosidad como criterio de calidad en las mismas. Los resultados indican que la tasa de depósito en la ablación con monopulsos es mayor que en los casos ablacionados por el régimen multipulso. En cuanto a la calidad de los depósitos, el análisis de rugosidad favoreció nuevamente a la ablación monopulso.