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http://repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/10945
Título : | Dependencia de las propiedades ópticas y estructurales con la concentración de oxígeno de películas delgadas de TiOx depositadas por RF-sputtering reactivo |
Palabras clave : | peliculas delgadas |
Fecha de publicación : | 16-ene-2013 |
Editorial : | Instituto Politecnico Nacional |
Descripción : | Se prepararon películas de TiOx por la técnica de RF-sputtering reactivo a partir de un blanco de Ti en una atmósfera O2-Ar. Para obtener los subóxidos (TiOx) el contenido de oxígeno dentro de la cámara de crecimiento se controló a través de los flujos de entrada de los gases con fracciones O2/Ar de 0 a 2.5. Los espectros de DRX mostraron que las películas crecen amorfas y que después de tratamiento térmico a 700° C cristalizan, observándose la formación de subóxidos y la presencia de fases cristalinas del TiO2 como función del contenido de oxígeno. El ancho de banda de energía prohibida varía de manera no lineal con O2/Ar y tiene un valor máximo para las películas amorfas de 2.94 eV y para las películas cristalinas de 2.71 eV. Existen tres regiones de depósito. Articulo en extenso en memoria de simposio Instituto Politecnico Nacional |
URI : | http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/10945 |
Otros identificadores : | 978-607-414-014-9 http://hdl.handle.net/123456789/454 |
Aparece en las colecciones: | Doctorado |
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