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http://repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/10999| Título : | Caracterización óptica y estructural de películas de dióxido de titanio crecidas por la técnica de rf-sputtering |
| Palabras clave : | dioxido de titanio peliculas delgadas |
| Fecha de publicación : | 16-ene-2013 |
| Editorial : | Instituto Politecnico Nacional |
| Descripción : | Se reportan una serie de crecimientos de películas delgadas de TiO2 por la técnica de deposición rf magnetrón sputtering. Las condiciones de crecimiento fue, a una potencia de radio frecuencia a 150 watt, una presión de crecimiento de 10mtorr la cual tiene una distribución 1:1 de 5mtorr de oxigeno y 5mtorr de argón, con un blanco de titanio de una pureza de 99.999%, y una distancia de separación blanco sustrato de 10cm, y sobre un sustrato de vidrio Corning. El parámetro que se vario fue la temperatura la cual fueron 300oC, 400oC y 500oC donde las técnicas de caracterización óptica determinamos su gap de energía entre 2.84 y 3.3 eV, dado tanto para la fase rutile como para la fase anatasa, y mediante la difracción de rayos x y micro Raman nos muestran su poli critanilidad, su orientación y sus modos vibracionales de estas muestras. Por difracción de rayos x podemos determinar también su tamaño de grano promedio y lo verificamos con microscopia de fuerza atómica lo cual nos muestra una variación de su tamaño el cual varia de 0.98Å a 2.78Å como se muestra en las figuras de MFA obteniendo una caracterización completa de nuestras muestras Articulo en extenso en memoria de simposio. Instituto Politecnico Nacional. |
| URI : | http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/10999 |
| Otros identificadores : | 978-607-414-014-9 http://hdl.handle.net/123456789/510 |
| Aparece en las colecciones: | Doctorado |
Ficheros en este ítem:
| Fichero | Descripción | Tamaño | Formato | |
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